露光(基礎工程)

露光装置の写真

マスク(パターンが描かれたガラス板)越しに紫外線を照射してレジストにパターンを感光させる

基本工程

個別工程の対応も可能

詳細は加工対応一覧へ

レジストパターン精度

L&S：最小2~3/2~3μm

アライメント精度

アライメントにズレがある写真
ズレがある場合
アライメントにズレのない写真
ズレながない場合

※2レイヤーある場合もアライメント精度±1.0μmで加工できます。
上記内容はあくまで最適条件下の実績値となり、仕様により異なります。